Der neue Index ist bei der Optimierung der Picosekunden -Laserbehandlung für Nevus von OTA optimiert

In den letzten Jahren wurde die durch Nevus von OTA verursachte Anwendung der Picosekundenlaserbehandlung (PSL) in den Bereichen Dermatologie, plastische Chirurgie und kosmetische Chirurgie voranschreitet. Es ist jedoch erforderlich, angemessene Bestrahlungsbedingungen festzulegen, um Effektivität zu erreichen. Dies stellt eine Herausforderung dar, da frühere Metaanalysen in Bezug auf Laserbehandlungsforschung nicht die ordnungsgemäßen Laserbestrahlungsniveaus berücksichtigen. Darüber hinaus enthielten solche Analysen Ergebnisse aus Fällen mit Über- und Unterbesiedlung, was die Notwendigkeit einer genaueren Bewertung ergab.

Ein Forschungsteam unter der Leitung von Yu Shimojo, dem speziell ernannten Professor Toshiyuki Ozawa, und Professor Daisuke Tsuruta von der Graduiertenschule für Medizin entwickelte den EICF-Indikator (übermäßiger Setting-Index für klinische Fluenz) unter Verwendung eines mathematischen Modells in Silikiko unter Verwendung eines mathematischen In-Silico-Modells, um die geeigneten Laser-Bestrafungsbedingungen zu bestimmen. Basierend auf diesem Index wurden die in der klinischen Praxis verwendeten Bestrahlungsparameter bewertet. Das Team führte dann eine Metaanalyse in Behandlungsstudien durch, die mit den theoretischen Bestrahlungsbedingungen übereinstimmten.

Im Fall von Nevus von OTA ergab ein Vergleich der PSL- und Nanosekunden -Laser -Behandlungen (NSL), dass die PSL -Behandlung unter geeigneten Bedingungen eine höhere Wirksamkeit und äquivalente Sicherheit zeigte.

Diese Leistung liefert wissenschaftliche Beweise, die Fragen wie „Warum war es effektiv?“ und „Warum sind Nebenwirkungen aufgetreten?“ in PSL -Behandlung. Obwohl eine weitere Überprüfung erforderlich ist, hoffen wir, dass EICF verwendet werden kann, um sicherere und effektivere Laserbestrahlungsbedingungen zu gewährleisten. „

Dr. Yu Shimojo, Postdoktorand Fellow

Die Ergebnisse wurden in veröffentlicht in Jaad Bewertungen.

Quellen: